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電去離子(EDI)
電去離子(EDI)是結(jié)合了電滲析與離子交換兩項(xiàng)技術(shù)各自的特點(diǎn)而發(fā)展起來(lái)的一項(xiàng)新技術(shù),與普通電滲析相比,由于淡室中填充了離子交換樹(shù)脂,大大提高了膜間導(dǎo)電性,顯著增強(qiáng)了由溶液到膜面的離子遷移,破壞了膜面濃度滯留層中的離子貧乏現(xiàn)象,提高了極限電流密度;與普通離子交換相比,由于膜間高電勢(shì)梯度,迫使水解離為H+和OH-,H+和OH-一方面參預(yù)負(fù)載電流,另一方面可以又對(duì)樹(shù)脂起就地再生的作用,因此EDI不需要對(duì)樹(shù)脂進(jìn)行再生,可以省掉離子交換所必需的酸堿貯罐,也減少了環(huán)境污染。
 

通過(guò)EDI設(shè)備處理后的水,產(chǎn)水電導(dǎo)率>16MΩ.cm,二氧化硅(SiO2)去除率高至99%或出水含量<5ppb。

 
工作原理
     

● 原水進(jìn)入系統(tǒng)將分成3股獨(dú)立的水流:淡水,約占進(jìn)水的90~95%;濃水,約占進(jìn)水的5~10 %;極水約占進(jìn)水的1%(如有)。水流流向與膜層表面平行。
● 模塊兩端的電極提供了橫向的直流電場(chǎng),電流驅(qū)動(dòng)水中的陽(yáng)離子(如鈉離子Na+)透過(guò)陽(yáng)離子膜,反之陰離子(如氯離子Cl-)透過(guò)陰離子膜,并防止陰陽(yáng)離子由另一側(cè)濃水室進(jìn)入淡水室(陰離子不能透過(guò)陽(yáng)離子膜,陽(yáng)離子不能透過(guò)陰離子膜),水從離子膜表面流過(guò)而不能透過(guò)離子膜。陰陽(yáng)離子從淡水室遷移到濃水室。在此過(guò)程可以去除大多數(shù)的強(qiáng)電解質(zhì)物質(zhì),離子交換樹(shù)脂起到簡(jiǎn)單的導(dǎo)體作用。
● 離子交換樹(shù)脂與原水的弱電解質(zhì)物質(zhì)(如硅)進(jìn)行交換。
● 電流促使水分子電解成氫離子H+和氫氧根離子OH-,這些H+和OH-連續(xù)再生充填在淡水室內(nèi)的離子交換樹(shù)脂。
● 進(jìn)水中的陰陽(yáng)離子在連續(xù)進(jìn)入濃水室后被去除,高純度的淡水連續(xù)從淡水室流出,其結(jié)果是降低了淡水室中水的離子濃度和增加了濃水室中水的離子濃度,從而使得淡水室中水的純度越來(lái)越高。
 

EDI相對(duì)于混床的優(yōu)勢(shì)
● 消除混床再生化學(xué)品的使用
混床系統(tǒng)中,通常采用酸堿對(duì)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行再生,但是這樣一來(lái)將增加遵守越來(lái)越嚴(yán)格的環(huán)保和安全標(biāo)準(zhǔn)的難度。 采用EDI技術(shù)則消除了此類(lèi)有害化學(xué)品的使用。
● 連續(xù)而簡(jiǎn)單的操作
混床系統(tǒng)再生為間歇性的,從而導(dǎo)致操作程序復(fù)雜,產(chǎn)水水質(zhì)波動(dòng)較大,系統(tǒng)必須留有很大的余量。而EDI系統(tǒng)為連續(xù)再生,具有產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定,運(yùn)行簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。
● 無(wú)有害廢水產(chǎn)生
混床再生廢水主要是廢酸和廢堿,排放前必須經(jīng)過(guò)中和。而EDI技術(shù)則不需要任何化學(xué)品再生,其濃水可被直接排放或者作為RO進(jìn)水循環(huán)利用。
● 占地面積小
由于采用了模塊化技術(shù),因此EDI在安裝時(shí)對(duì)設(shè)備的高度和空間具有更多的選擇,EDI系統(tǒng)相對(duì)于同等處理能力的混床需要更少的占地面積。
● 易于維護(hù)
如果系統(tǒng)內(nèi)某一個(gè)模塊因故暫時(shí)脫離工作,進(jìn)水能夠在其余模塊中重新分配,使系統(tǒng)的總體運(yùn)行效果不受影響。